Was stellt man mit EUV Lithographie her?
Mit der „EUV-Lithografie“ sollen Mikrochips künftig kleiner und schneller werden. Darunter versteht man die Chip-Produktion mit „extrem ultravioletter Strahlung“. Anwendungen das autonome Fahren oder virtuelle Realitäten erfordern deutlich leistungsstärkere Rechner als heute.
Was kommt nach EUV?
Nano-Imprint-Lithografie (NIL) Dieses Verfahren ist eine Alternative zur klassischen EUV-Lithografie. Statt Belichtung kommt hier ein Prägeverfahren zum Einsatz. Die Auflösungsgrenzen des Nano-Imprint-Verfahrens liegen derzeit bei 5 nm.
Wie funktioniert EUV?
EUV-Licht ist sehr schwierig zu erzeugen. Um es herzustellen, schießt ein sehr starker Laser in einer Vakuumkammer auf vorbeirauschende Zinntröpfchen – und zwar 50.000 Mal in der Sekunde! Dabei entsteht ein Plasmablitz mit der gewünschten Wellenlänge von 13,5 Nanometern.
Welches Licht oder Wellenlänge wird bei der Lithographie verwendet?
EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).
Was sind Lithographiesysteme?
Zwar ist das Prinzip vergleichsweise einfach. Schließlich ist ein Lithographiesystem nichts anderes als ein Projektor: Licht wird durch eine Blaupause auf einen Wafer übertragen, also auch eine nicht mal einen Millimeter dünne Siliziumscheibe, die zuvor mit einer Chemikalie überzogen wurde. Das beginnt beim Licht.
Wie extrem ultraviolettes Licht die chipproduktion revolutioniert?
Durch den Beschuss werden Lichtwellen von 13,5 Nanometer Länge erzeugt – das ist rund 15-mal kürzer als bei bisherigen Lasern der Chipbranche. Bislang wurde das Licht durch Linsen gebündelt.
Was ist High Na?
High-NA (High numerical aperture) verspricht einen ähnlichen Gewinn wie der Sprung von Immersions- zu EUV-Lithografie. Multi-Patterning soll dabei möglichst aus dem Weg gegangen werden, denn eine hohe Anzahl an Belichtungsschritten birgt stets Fehlerquellen und treibt die Kosten in die Höhe.
Was ist Lithographie Optik?
Der Begriff Lithographie-Optik steht dabei stets für die zwei Komponenten, aus denen diese aufgebaut ist: Projektionsoptik und Beleuchtung. Mittels der Projektionsoptik werden dann die gewünschten Strukturen auf den Wafer aufgebracht. Aus diesen Strukturen entstehen in weiteren Prozessschritten die Schaltkreise.
Was produziert ASML?
Die ASML Holding N.V. ist ein niederländisches Unternehmen und der weltweit größte Anbieter von Lithographiesystemen für die Halbleiterindustrie. Die überaus komplexen Maschinen spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen (Mikrochips).
How will the competition between duv and EUV systems be decided?
The competition between DUV and EUV systems will be decided more by economic and technological factors such as risk, time and cost of development and cost of ownership. These in turn depend on cost, availability and quality of light sources, refracting materials, photoresists and reticles.
What is the full form of EUV?
In chip manufacture, used as an abbreviation for EUV lithography (also abbreviated EUVL), that is, lithography with light at a wavelength of 13.5 nanometres. EUV is expected to be used in production before 2020. – Excimer laser: Light source for DUV scanners. – Half-pitch: Half the distance (in nm) between two identical structures on a chip.
What is the difference between EUV and DUV lithography?
Unlike DUV lithography sources, based on excimer lasers, EUV plasma sources produce light across a broad range of wavelengths. Though the EUV spectrum is not completely monochromatic, nor even as spectrally pure as DUV laser sources, the working wavelength has generally been taken to be 13.5 nm.
What is EUVL (extreme ultraviolet lithography)?
(January 2021) ( Learn how and when to remove this template message) Extreme ultraviolet lithography (also known as EUV or EUVL) is a lithography (mainly chip printing/making aka „fabricating“) technology using a range of extreme ultraviolet (EUV) wavelengths, roughly spanning a 2% FWHM bandwidth about 13.5 nm.